前往 EUV光源新突破：有望解决国产光刻机难题 - 电子工程 您即將離開本站，並前往EUV光源新突破：有望解决国产光刻机难题 - 电子工程 確認離開返回上頁常見光刻機光源問答光刻機用途euv光刻機中國光刻機概念股euv光刻機原理中國光刻機 2021ASML 光刻機 中國光刻機台灣上海微電子光刻機光刻機euv光刻機荷蘭光刻機公司光刻機原理中國製造光刻機光刻機中國光刻機台灣上海微電子光刻機 延伸文章資訊EUV光源新突破：有望解决国产光刻机难题 | 比起理论科学上的突破,产业链的发展更为重要。无法制造逻辑、存储等高端芯片,是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。这背后,EUV光刻机的缺失, ...國產光刻機的投用關鍵，技術系統整合，理想下5～7年量產5 ... | 光刻光源裝置及其配套的技術系統，對應的是長春、上海光機所、哈工大及清華團隊等。補充一點：上海光機所目前正在攻堅13.5奈米的等效極紫外光源，清華大學 ...